半導体・FPD製造装置向けに真空環境下で高精度・高安定性が求められる精密部品と超高純度アルミ等の機能材料を一貫製造・販売する
有報「事業の内容」 有価証券報告書(2025-08期)からの抜粋。
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【事業の内容】(1)事業の内容(事業の内容)当社グループの事業の内容は、精密部品事業と、機能材料事業の二つがあり、その事業内容は次のとおりです。 セグメント分野主要製品精密部品事業半導体用途:半導体製造装置を構成する真空部品等。主にドライエッチング工程・CVD工程・洗浄工程・塗布工程などの前工程と言われる半導体製造装置および貼り合せ装置部品や検査装置部品等を製造しております。特徴:当社で製造する部品は、主に真空中で使用されるほか、高温高電圧のプラズマにさらされることから高い対電圧性能が要求されます。また、半導体製造のプロセスは非常に繊細であるため、製品の安定度が重要な要素となっており、試作とプロセス評価に長い時間が掛かりながらも、一旦装置に採用されると長い期間変更されずに受注が継続します。また、プラズマにさらされることから消耗も激しく、定期的に消耗品需要もあり、新規装置の需要が無い場合でも消耗品需要が見込めます。 FPD用途:FPD製造装置及び検査装置を構成する真空部品。FPD製造工程の中で、主にドライエッチング工程・CVD工程・イオン注入工程などのFPD製造装置を構成する部品を製造しております。特徴:チャンバーと呼ばれる耐真空容器や電極と呼ばれるチャンバー内蔵物を製造しております。これらの部品は部品サイズが3m以上と大きく、形状が複雑で非常に歪み易い割に、厳しい平面度や位置精度など高精度が要求されるアルミ等の金属製部品です。大きさは違いますが、半導体部品と同様にプラズマにさらされる環境で、対電圧や安定性が求められる重要部品です。 その他用途:スマートフォン筺体(ケース)の表面処理装置、太陽電池製造装置部品、オートバイのレース用部品、光学分野(カメラ・顕微鏡)・医療装置などの産業用装置部品などを製造しております。特徴:各分野の最終製品を構成する部品の中でも、複雑な形状や高い平面度が必要であるなど歪みの少なさが要求される部品、あるいは溶接や表面処理を含む多工程が必要な部品などで、アルミほか各種金属製の部品です。機能材料事業IT器材用途:半導体スパッタ工程用ターゲット材料半導体製造装置部品向けアルマイト処理半導体製造装置用精密部品特徴:99.999%以上の超高純度アルミの製造能力を活用してスパッタリングターゲットの材料を製造しております。また、エッチング装置などの半導体製造装置に使用される真空部品について、鍛造素材・機械加工・表面処理まで一貫製造を行っております。 半導体装置部材用途:半導体製造装置用真空チャンバー産業用ロボット向け鋳物特徴:日本トップクラスの低圧鋳造設備を使用した半導体エッチング装置向け真空チャンバーを製造しております。また、産業用や半導体装置に幅広く使用される重力鋳物を製造しております。 基礎素材用途:電解コンデンサ用高純度アルミ材ハードディスク製造用高純度アルミ材一般機械加工用スラブ材小口材料販売特徴:99.99%以上の高純度アルミ生産能力を活用して、電解コンデンサやハードディスクの材料を製造しているほか、アルミの鋳造能力を活かして大型スラブ材料を製造しております。また、スラブ材料等を加工メーカー等へ切断販売も行っております。 (2)事業系統図当社グループ事業の系統図は以下のとおりであります。 財務は有価証券報告書、株価は市場の公開情報。 数値の正確性は保証しません。 水色のセルは、次の基準を満たすときです。成長率20%以上/総利益率70%以上/販管費率10%以下/営利率20%以上/Rule of 40が40%以上/セールス効率150%以上/PSRがRule of 40×7以下/PGPRがRule of 40×10以下/PERが成長率×100以下/PBRが営利率×10以下/ネットキャッシュが時価総額の50%以上/EV/EBITDAが5倍以下/自己資本比率80%以上/ROE20%以上/ROA10%以上。
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